上海日立電(diàn)器有限(xiàn)公司科技大樓建設項目可行性研究(jiū)報告

Construction time:2003年 locations:上海(hǎi)金橋

該項目位於金橋出口加(jiā)工區26#地塊內,新建大樓占地總麵積1950平方。主要設置試驗開發中心(技術(shù)人員辦公(gōng)和試驗(yàn)加(jiā)工設備用房)、信息管理中(zhōng)心及(jí)相關管理部門辦公樓。總投資約5000萬。

獲獎信息:

獲獎項目名稱(chēng):上海日立電器有限公司科技大樓建設項目可行(háng)性研究報告

發獎部(bù)門:中國輕工業勘察設(shè)計(jì)協會

獎項(xiàng)等級:工程谘詢(xún)三等獎

獲獎年份:2004年

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